真空氣氛爐可應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。也用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門、工礦企業(yè)電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結(jié)、釬焊等工藝。
 

　　工作原理：
 

　　真空氣氛爐是一種將真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù)，與常規(guī)熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。其工作原理是把物體在通入一定氣體的爐膛內(nèi)進行燒結(jié)的方法進行。
 

　　工藝處理：
 

　　真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進行的，其中包括低真空、中等真空、高真空和超高真空等，真空熱處理可以實現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質(zhì)量大大提高，實際上真空熱處理也是屬于氣氛控制熱處理范疇。
 

　　對于真空氣氛爐來說由于其氣氛的形式有很多種，因此需根據(jù)物料的特性來選擇合適的氣氛形式，例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結(jié)，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結(jié)，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結(jié)。有時為保護燒結(jié)調(diào)協(xié)也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫，鎢絲爐宜在真空條件下工作。